Основной принцип покрытия PVD заключается в испарении или распылении твердого материала мишени с помощью физических средств в вакуумной среде, а затем нанесении испаренных атомов или ионов на поверхность подложки с образованием тонкой пленки. При нагревании или бомбардировке исходный материал (обычно металл или сплав) преобразуется в газообразные атомы или молекулы. Этого можно достичь с помощью различных методов, таких как резистивный нагрев, нагрев электронным лучом или плазменная бомбардировка, при которой испаренные или распыленные атомы или молекулы движутся в паровой фазе внутри вакуумной камеры. Вакуумная среда уменьшает столкновение молекул газа, позволяя атомам или молекулам свободно перемещаться и достигать поверхности подложки. Технология нанесения PVD-покрытия отличается экологичностью, энергосбережением и высокой эффективностью и широко используется в таких областях, как автомобилестроение, аэрокосмическая промышленность, электроника и оптика. Выбирая различные материалы мишени, такие как металлы, сплавы, керамика и т. д., можно получить покрытия с разными эксплуатационными характеристиками, отвечающие различным требованиям применения.
